芯片制备技术是我们卡脖子的核心关键技术，我国芯片制备技术行业长期以来受制于人。要想实现中国制造2025，自己解决卡脖子的瓶颈技术成为了我们唯一的选择。制备芯片过程中，有一个非常关键的零部件：芯片托盘，也就是我们俗称的"石墨基座"。据了解，我国99%以上的石墨基座均靠从美国、德国、日本等发达国家进口，就这么一块小小的东西每年花费我们国家高达数百亿人民币。经过艰难攻关，武汉工程大学赵培教授团队很好地解决了这个问题。
其实石墨这个材料很常见，关键是它表面需要一层碳化硅涂层，目前国内没有合适的设备来制备这个涂层，而国外对我们只卖产品，不卖设备。基于这个现状，学校赵培教授团队研发的"智能化学气相沉积装置"，很好地解决了这个问题。
赵培教授和他研发的智能化学气相沉积装置
赵培教授毕业于日本东北大学，至2013年入校以来，主要从事化学气相沉积法制备各种结构及功能薄膜和涂层（如SiC,SiO2,TiC,TiN,Al2O3及YBCO等）的技术研究。近年来，团队聚焦"中国芯"战略，一直致力于MOCVD薄膜制备技术研究，研制了具备自主知识产权的智能化学气相沉积设备，已发表相关研究SCI论文10余篇，获得授权发明专利6项。这项技术的具体优势主要体现在：
1）搭载的"喷液雾化-多元共析液体原料供给系统"解决了以往CVD设备中固体原料蒸发罐供给系统在工业应用中无法长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸汽难题。
2）搭载的"智能真空度控制系统"，能精准控制本设备腔体内的压强，并能将腔体真空度维持在100-1000 Pa之间的任意设定值，能保证工业生产时薄膜质量的精准控制。
3）搭载的"智能操控系统"能实现能用电脑精准控制薄膜沉积过程中的每个动作，实现了全自动智能化操作，杜绝了人为操作出现的失误的情况，解决了样品可重复性差这一难题。
4）智能安全系统，设备能自行判断、并应对各种突发事件，例如突然断电、火灾、地震等。
5）远程操控系统，可以远程通过手机或其它计算机联网时时查询、操控设备状态，实现无人化操作。
喷液雾化-多元共析液体原料供给系统
该设备创新性地解决了目前化学气相沉积方法中固体原料蒸发罐供给系统在工业应用中无法长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸汽的难题，能大幅提高碳化硅涂层的沉积速率、精准控制原料的成分比例、能实现沉积过程的全自动化操作。目前，该技术与装置已在一些企业和研究院所得到广泛应用，用于制备碳化硅涂层，助力"中国芯"产业发展。
近年来，武汉工程大学聚焦行业和企业关键技术需求，大力实施科技创新驱动，取得了一系列科技创新成果。2012年以来，学校共承担各级各类科研项目5258项，其中原973计划、原863计划、国家科技支撑计划、国家重点研发计划、国家自然科学基金、国家社会科学基金、国家软科学研究计划等国家级项目295项，省部、市级项目1259项。获国家、省部、市级教学、科技成果奖126项，其中，国家科技进步二等奖2项，国家技术发明奖二等奖2项，国家教学成果二等奖1项，湖北省自然科学一等奖2项、湖北省科技进步一等奖5项、湖北省教学成果一等奖等省部、市级科技奖励123项。获专利授权1288余项。教职工发表的学术论文被SCI、EI、ISTP、SSCI、CSSCI、新华文摘、人大复印报刊资料等检索收录5230余篇。2017--2019年，科研入账经费共计3.7亿元，科研经费增幅居省属高校前列。机器人足球队共荣获10余项世界机器人足球大赛冠军。学校建有科技产业园和科技孵化器大楼，被评为"科技服务湖北先进单位""武汉市科技管理先进集体"。
此外，在今年6月由湖北省科技厅主办，武汉工程大学和湖北省技术交易所联合承办的"联百校转千果"科惠行动2020高校成果云推介武汉工程大学专场活动在湖北省技术交易所成功举办，共有400余项代表性成果参加本次云推介活动，并提前在网络上集中预热推广。直播现场重点推介8项、云平台推介12项，433项成果在科惠网上集中展示。在现场推介的8项科技成果中，共有252人（企业）认领，按照认领的金额区间，累计意向成交额将达到2.13亿元，共吸引94万人次观看了直播活动。
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素材来源："武汉工程大学"官网