在目前的微电子工业中，超过三分之一的电子器件设备都采用等离子体技术进行加工，如以Intel处理器为代表的半导体芯片生产过程，三分之一是与等离子体技术相关的。
而微电子工业中的清洗是一个很广的概念，包括诸多与去除污染物有关的清洗工艺。通常是指在不破坏材料表面特性及导电特性的前提下，有效地清除残留在材料上的微尘、金属离子及有机物杂质。
目前已广泛应用的物理化学清洗方法，大致可以分为两类：湿法清洗和干法清洗。从对环境的影响、原材料的消耗及未来发展上看，干法清洗要优于湿法清洗。干法清洗中发展较快、优势明显的是等离子体清洗。
而微波等离子体清洗作为一种绿色无污染的高精密干法清洗方式,可以有效去除表面污染物,避免静电损伤。其主要清洗原理为：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。
经过用户验证， 沃特塞恩 2450Mhz-200w固态微波源 可以用于常压 N2(氮气)或者 CDA（洁净空气），传送带式的工作方式，高效快速地将产品送至等离子电极火焰下烧灼清洗，比如电极清洗，OLED液晶屏清洗等应用环境，在国内外都有很好的验证和案例。
除了上述的2450MHz-200W的微波源应用案例，沃特塞恩还有 1KW/1.5KW/2Kw/3Kw等不同功率等级的固态微波源 ，可在2.45 GHz的频率下集成到用户的等离子体源应用于半导体清洗场景中（如晶圆、IC精密原件、电子显微镜的样品清洗）。
沃特塞恩海外用户提供的1.5Kw微波源现场案例图
沃特塞恩微波源作为为等离子处理系统提供稳定可靠的能量源装置，不同功率等级可处理不同大小的载体对象。
设备自动化的发展，降低了人工成本，提高了生产效率，为企业创造了发展利益，同时也展现了科技的魅力！沃特塞恩微波源深信微波等离子体技术应用范围会越来越广，沃特塞恩微波源产品覆盖全国，并远销国外多个国家和地区，产品深得广大用户的青睐和客户好评。