光刻机：低位光刻机遗珠，众合科技，参股浙江启尔机电，十分正宗
华为： 众合科技与华为联合发布了“信号系统DCS网络信息安全等级保护解决方案”
众合科技的自研ATS等产品顺利通过了华为鲲鹏服务器兼容性测试。
浙江启尔机电国内唯一从事光刻机“液体物镜”浸液系统研发的公司，国内唯一一家！
也是目前全球继荷兰ASML与日本NIKON之后第三家具有光刻机浸液系统研发能力的单位。
浸液系统是ARFi光刻机的核心系统之一，目前，DUV光刻机主要分为KRF、ARF和ARFi，这三者的波长分别是248纳米、193nm和134nm，一股而言波长越短越先进。
浙江启尔机电技术有限公司成立于2013年，2017年8月签约入驻青山湖科技城，公司主要研发、生产和销售高端半导体装备超洁净流控系统及其关键零部件。启尔机电前身是浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室启尔团队，先后承担国家863计划和国家科技重大专项等科研项目30余项，总投资约10亿元，已获授权发明专利100余项。公司员工230余人，其中：高级职称7人，博士12人，在职博士6人。启尔团队深耕于高端半导体装备细分领域的尖端技术，经过十六年坚持不懈的基础研究和技术攻关，已具有不可替代的行业地位。
众合科技与华为联合发布了“信号系统DCS网络信息安全等级保护解决方案”。
为地铁信号系统提供DCS车地无线网络解决方案以及各种光纤传输、交换机和服务器等等，此外，还有ATS和AFC等国产化服务器平台应用也有合作， 众合科技的自研ATS等产品顺利通过了华为鲲鹏服务器兼容性测试。
众合科技参股浙江启尔，全国唯一光刻机“液体物镜”浸液系统研发的公司。
与上海微电子合作成立公司。
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