来源：牛津仪器
牛津仪器（Oxford Instruments）推出PlasmaPro ASP系统，这是其Atomfab®产品系列中的一款高速原子层沉积（ALD）研究系统。PlasmaPro ASP受益于新的专利远程等离子体源设计、优化的腔室几何形状和用于离子能量控制的晶圆台偏置。这些特性结合在一起，为量子应用提供了三倍快的ALD速率、低电阻率和高Tc超导氮化物薄膜，这是此次发布的最初应用重点。
等离子体源设计涉及与埃因霍温理工大学（TU/e）的合作，该大学获得了一个开发模块，用于研究等离子体参数空间并确认高速率低损伤源特性。与TU/e联合开发后发表的论文（Innovative remote plasma source for atomic layer deposition for GaN devices）在去年的AVS ALD/ALE。
会议上荣获最佳论文奖。牛津仪器与TU/e的合作一直持续到工艺开发，过去一年，TU/e一直充当量子和其他应用的PlasmaPro ASP应用开发加速器。
PlasmaPro ASP系统是牛津仪器现有ALD工具集的绝佳补充，旨在通过创新的高速率源设计和超长机器正常运行时间，以及直观软件用户界面来解决关键的量子挑战。它在生产率和等离子体功能方面与众不同，为在电子、光子学和量子技术领域的研究提供了一些独特的机会。
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