认真研究，明白讲话，金融科普，有我九方！九方智投拥有一支强大的投研团队——九方金融研究所，为大家分享投资相关的知识和技巧。
在半导体领域，有这样一家公司，2017年/2018年/2019年营收增长率分别达到59.45%/68.66%/18.77%，而2018年/2019年归属净利润则分别达到203.72%/107.51%。今年前三季度，公司营收增长率为21.26%，归属净利润增长率则达到105.26%。从财务上，我们可以看到这家公司依然处于高速增长期，它乘着半导体东风而来，正意气风发！
它就是——中微半导体设备(上海)股份有限公司(简称“中微公司”)。
中微公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司,为集成电路和泛半导体行业提供极具竞争力的高端设备和高质量的服务。中微开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备,可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础,它们正在彻底改变人类的生产方式和生活方式。
中微总部位于上海，聚焦亚洲，并为全球的客户提供技术和设备的解决方案。作为制造和创新的中心,中国和亚洲具有得天独厚的优势和高速成长的市场,而这使中微有无限广阔的发展前景。在中微员工的创新激情、多年的齐心奋斗和合作共赢的精神指引下,中微已经成为一家快速成长的微观加工设备公司,在技术创新、产品优化和市场准入方面取得了重大突破,赢得了众多客户和供应厂商的信任和支持,成为国际半导体微观加工设备产业极具竞争力的一颗新星。
我们都知道，国家也好、企业也好，只要你掌握了科技、掌握了核心技术，那么你就有了主动权，你也就掌握了市场。而核心技术、科技则是掌握在人才手里，所以不管是国家还是企业，人才是至关重要的。 中微公司的快速崛起，还得从一个人说起——中微灵魂人物尹志尧。
“硅谷最有成就的华人之一”——尹志尧
1944年，尹志尧出生在北平一个爱国世家。他的曾外祖父是清末革命*党**人，祖父是庚子赔款留学生，是开拓吉林四平街，支持本土工商业发展来对抗日本经济侵略的政治家。父亲是留日回国报效的电化学专家。
中学就读于久负盛名的北京四中，曾任少先队大队委员会主席，共青团委委员，获得学习优良金质奖章。本科毕业于天才云集的中科大。大学毕业后，尹志尧在兰州炼油厂和中科院系统工作了近十年。1978年，“不安分”的他选择继续深造，考入北京大学化学系。
在北大，尹志尧目睹了当时国内最先进的计算机，内存虽然只有128K，却占了两栋大楼，里面装着数不清的电子管。
当年尹志尧可能没想到，自己的人生将会从此与半导体紧密交织，难以分离。
40年来，从电子管计算机到纳米级的芯片，人类已经将微观加工的面积缩小了1万亿倍，尹志尧有幸参与了这一过程。
1980年，他获北大化学系硕士学位，后在亲戚帮助下，到加州大学洛杉矶分校攻读博士学位。仅仅三年半，他就拿到物理化学博士学位。用现在的话说，他绝对是一名名副其实的学霸。
此后20年里，尹志尧一直在硅谷工作，从工程师到公司高管，再到设备领域的领跑者。先后在英特尔、泛林、应用材料等半导体行业的国际巨头工作。归国前，他已在全球最大的半导体设备百亿公司——应用材料做到总公司副总裁，等离子体刻蚀事业群总经理。 其在半导体行业拥有86项美国专利和200多项各国专利，被誉为“硅谷最有成就的华人之一”。其领导和参与开发的刻蚀设备，几乎占到了全世界的一半。
60岁准备退休的那年，即2004年，尹志尧做了一个让人意外的决定，回到中国。
他以及和他一同回国的同事，知道回国创业的风险，他们空着手登上了回到祖国的航班。
等离子体刻蚀机是芯片制造仅次于光刻机的最重要的微观加工核心设备，加工精度在纳米级，相当于在头发丝几千分之一的尺度上，盖几十层的高楼，修高速公路，搭立交桥。多年来，等离子刻蚀机一直被应用材料、泛林和东京电子垄断。
没有刻蚀机就无法制造芯片，造不出可以满足中国科技发展需求的“中国芯”，犹如一道枷锁，严重束缚了中国科技发展的步伐。
直到2004年，尹志尧回国创办中微半导体，这一格局才被打破。
目前，尹志尧的团队已开发出生产7nm到5纳米器件的设备，已经与世界最前沿技术比肩。
经过中微团队十四年的努力，中微已成为我国半导体高端设备的领军企业，国际半导体产业的一颗新星。美国商业部在2015年宣布“由于在已有一家中国的公司做出来和美国相当数量和同等质量的刻蚀机”所以去掉了对中国的出口控制。 在2018年美国半导体产业著名的市场分析公司VLSI Research 在对全球半导体设备公司客户满意度的评比中，中微被评为第三名，仅次于荷兰的ASML 光刻机公司和一个美国公司。
国产芯片之光，刻蚀设备领跑者
薄膜沉积、光刻和刻蚀是芯片制造三大核心工艺。薄膜沉积工艺系在晶圆上沉积一层待处理的薄膜，匀胶工艺系把光刻胶涂抹在薄膜上，光刻和显影工艺系把光罩上的图形转移到光刻胶，刻蚀工艺系把光刻胶上图形转移到薄膜，去除光刻胶后，即完成图形从光罩到晶圆的转移。制造芯片的过程需要数十层光罩，并通过薄膜沉积、光刻和刻蚀三大工艺循环，把所有光罩的图形逐层转移到晶圆上。
公司核心产品刻蚀设备/MOCVD设备，是半导体制造核心设备。 公司介质刻蚀设备国内最先进，并达到国际一线水准，产品已进入世界领先晶圆制造企业5nm产线。 硅刻蚀、金属刻蚀已进入客户端验证阶段。
刻蚀设备在晶圆厂设备支出中仅次于光刻设备，且相较于光刻设备刻蚀设备数量更多，可替代比例更高。 目前受益5G等技术升级驱动下游代工厂投资新产线，大基金二期投资启动，主要晶圆厂采购周期到来，刻蚀设备增长趋势明显，且由于中美关系晶圆厂出于供应链安全考量国产设备需求上扬，国产替代预期下公司业绩有望高速增长。预计2020-2022年刻蚀设备带来的营业收入为14.64亿、20.73亿、30.89亿元。
MOCVD设备受益于Mini LED/Micro LED需求增长。公司MOCVD设备已达到国际水平，且价格优势明显。未来有望成为国际领先的半导体设备开发商。公司作为国内MOCVD设备绝对龙头，虽然2019年LED行业景气度下行，但考虑新需求的出现，未来MOCVD仍将保持增长趋势。预计2020-2022年MOCVD设备带来的营业收入为6.98亿、7.23亿、6.93亿元。
考虑公司研发技术国内领先，并且处于高增长阶段，可参考泛林半导体的快速增长路径。公司估值目前处于合理价位，其投资价值值得关注。
参考资料：
20201109-国联证券-中微公司：国芯之光，刻蚀设备领跑者
更多精彩文章，可关注头条号：九方金融研究所，获得更多独家实用的观点！本报告由九方智投投资顾问欧阳健(登记编号:A0740619070001)撰写，本文所涉个股仅为案例分析，不作为投资建议，据此操作风险自担。