中微公司同样具备一些优势：
第一，技术优势，中微公司当前主营产品技术水平已达到国际先进水平，刻蚀机方面，具备7nm及以上设备的量产能力，最先进制程5nm制程刻蚀机也已经通过台积电验证，即将进入世界第一条5nm晶圆生产线。其创始人及技术团队有很多都是半导体行业从业多年的专家，具有较强的研发能力。与外国公司相比，从技术上已经达到甚至超过同行业公司；
第二，产品性价比优势，主营产品MOCVD的第二代产品Prismo A7 具有更高的性价比， 拥有4个反应腔，可以同时加工136片4英寸晶片或56片6英寸晶片，工艺能力还能延展到生长8英寸外延晶片，每个反应腔都可独立控制，推出后迅速战胜对手，占据大部分市场份额。
第三，中微公司主要经营地点为中国大陆地区，而中国大陆地区目前是世界第二大半导体设备需求市场，未来需求增长潜力巨大，中微公司贴近客户，建立了完善的售后服务体系，可以依靠优质的售后服务，增强客户粘性，提升产品竞争力。
第四，中微公司有40%国有资本股份，2014年12月就收到国家集成电路产业基金（又称大基金）4亿元人民币的投资，是大基金在半导体设备领域投资的第一家公司；背靠国家政策支持，又身处我国半导体芯片国产化发展关键时期，市场竞争力有望持续上升。
公司营收结构清晰，设备业务销售占比占比超过85%，其次是备品备件业务，占比在14%左右。专用设备主要为刻蚀设备和MOCVD设备，2016-2018年，两类设备的年销售收入合计占专用设备销售收入的比例分别为99.57%、99.21%和100.00%。
营收增长方面，刻蚀设备2018年营收额同比增长了接近一倍，达到5.6亿元，同比增长幅度为95.74%，增长迅速，主要受益于2018年集成电路制造商投资增长，刻蚀设备需求量大增；而2017年公司刻蚀设备营收额同比降低了38.57%，主要原因是行业投资规模不及预期，影响了公司的销售收入。因此可以看到，刻蚀设备营收规模与行业投资强度密切相关，短期内，半导体行业景气度较高升，投资规模较大，营收有望继续迅速增加。
MOCVD设备方面，中微公司的MOCVD设备目前共有两代，第三代正在研发，第二代PrismoA7设性能大幅提升，2017年推出后迅速击败竞争对手，占领国内市场，营收额从1500万迅速增加到5.3亿元，占总营收比重从2.56%增加到54.56%，增长极为迅速，2018年营收进一步增加。根据IHSMarkit的统计，2018年公司在全球氮化镓基LED-MOCVD设备市场已占据主导地位，但随着市场占有量达到较高水平，未来增速可能会有所降低。
备品备件方面，营收规模逐渐增加，占营收比例近两年相对较稳定，随着公司主营产品销售额增加，这部分业务营收也会逐步提升。
风险提示
1、下游客户需求不及预期风险
近年来，在半导体芯片国产化背景下，大陆集成电路制造领域投资显著增大，半导体行业整体景气度上升，带动设备行业市场需求增大，公司营收增速明显，但半导体设备行业下游客户厂商较为集中，单一客户投资需求变动对公司营收影响较大，若下游客户后期投资减少或增长缓慢，将影响公司营收。
2、技术更新的风险
半导体设备行业技术、下游产品迭代较快，对设备性能要求、生产厂商技术水平要求极高，近年来中微公司研发费用逐年上升，但数额仍与国外公司差距较大，若后期公司由于研发费用不足导致技术水平更新慢，不能适应行业需求，将对公司营收产生重大影响。
3、市场恶意竞争的风险
公司刻蚀设备领域主要竞争对手为海外巨头公司，一个重要的竞争优势是产品性价比高，而三大公司发展较早，资金技术积累深厚，营收规模大，若在市场竞争中，外商公司借助资金和规模优势，压价竞争，将对公司营收产生较大影响。
4、政府补助与税收优惠政策变动风险
公司先后承担了多项国家重大科研项目，2016-2018年计入当期损益的政府补助金额为1.16元，1.17亿元与1.70亿元，同时，公司自2012年开始连续多年获得高新技术企业认定，享受15%的优惠税率，若上述政府补助与税收政策发生变化，会影响公司盈利情况。
5、顶尖技术人才不足的风险
技术先进性是公司的核心竞争力之一，若要长期保持技术先进就必须持跟踪最新技术，吸引先进人才，而当前公司核心技术人员，包括创始人尹志尧75岁，杜志游60岁、倪图强57岁、麦仁义72岁、杨伟53岁、李天笑61岁，年龄均普遍偏大，存在关键技术人员高龄风险，若后期公司不能持续引进顶尖技术人才，或加大人才培养，公司将面临顶尖技术人才不足的风险。
6、知识产权争议风险
半导体设备行业属于技术密集型行业，公司通过申请专利等方式研发自己的知识产权体系，保护自身技术不外泄，若公司后期与竞争对手产生知识产权纠纷，或自身知识产权被侵权，将对公司营收产生影响。
