现在老百姓们都知道，谁占领了芯片的核心制造技术，做到自主批量生产，谁就能突破技术*锁封**，大步跑向高端工业强国。

而要想实现不靠人，自己造芯片的目标，就一定离不开“孕育芯片的母体”——光刻机。荷兰作为“光刻机制造大户”，自然不会放过这个赚钱机会，一开口就要价1亿美元，且每年只产出数十台，要买的国家还得乖乖排队。

诡异的是，日本费尽心思生产出了“实惠版的光刻机”，要价只有4500万，销量反而远远不及荷兰。许多国家依然排队在ASML门口等着。荷兰的天价光刻机，到底赢在了哪里？为何我们也不买日本的光刻机？

日本光刻机VS荷兰ASML

在跟芯片的上游领域——光刻机生产上，荷兰要说自己第二，估计没人敢说第一。荷兰ASML作为全球领先的半导体巨头，仅在2017年，市场份额就占到了全球规模市场的87.4%。

荷兰ASML从发家之初，就采取了和尼康等日企完全不同的生存策略，始终把目光定睛全球，这样带来的结果是，超过95%的生产零件都从各国采购，也让他在全球积累了无数合作伙伴。但要说荷兰ASML只是一家“廉价组装厂”，又妥妥不准确了。

在布下密密麻麻的产业链和销售链后，荷兰ASML每年慷慨掏出盈利的15%用于科研创新，这让荷兰占领绝对优势的同时，还拥有鲜活的创新力，不断进行光刻机的研发升级。

也正是这几点关键策略，才让荷兰的光刻机技术实现弯道超越，直接跃居世界首位。

其实整个20世纪，日本在光刻机制造上，都保持着数一数二的地位。尤其佳能和尼康的全面垄断，更是不给其他国家任何一点可乘之机。日本的Canno Tokki独立生产的真空蒸镀光刻机，长时间占据着全球90%的贸易额。

日本还依靠其掌握的镀膜、掩膜板等顶尖技术，诞生了一批ASML的供应商，比如东京电子，来和竞争对手良性竞争、“相爱相杀”。

也正是靠着这些核心技术，日本每年也向其他国家出口光刻机，要价远远低于荷兰，只有4500万美元。但令他们始料未及的是，自己的光刻机一开始并没有像想象中那样畅销，跟着却来了一场暴风雨。

眼看着日本半导体发展过快，美国就出来“控制局面”了。20世纪80年代，美国近乎强迫式地让日本签了一项“霸王协议”，在对美芯片出口上上调关税100%。这一规定相当于把风风火火的日本半导体行业拦腰砍断，被*压打**后的日企无奈转型，也拖慢了日本光刻机的发展脚步。

相比之下，现代化科技起步较晚的我国，则面临更多方面的挑战。我国在尚未自主研发前，也在预订进口荷兰的光刻机，就算出价1亿美元，也得狠下心掏腰包，这又是为啥？

要价1亿美元，为啥也得买？

不过，要说荷兰和日本的光刻机水平中最关键的差别，还是实力。“外行看热闹，内行看门道，”佳能制造的光刻机，虽然远比荷兰ASML便宜，但是在技术水平上可是有着天差地别之处。

在光刻机的精度上，尼康最高只能做到32纳米，而荷兰ASML却能轻而易举造出7纳米的精度。如果芯片企业要生产高精尖的电子产品，势必要进口一批超高端光刻机，这时尼康和佳能的光刻机就略显吃力了。单单是这一点，就让日本望尘莫及。

所以花大价钱购入荷兰ASML，就算出血本，这成本也花得值。

不得不说，有些遗憾的是，虽然我国半导体行业正在飞速发展，芯片行业努力自主研发。但说到光刻机制造，我国自主生产的光刻机远不能制造高端芯片，技术水平上仍处于高度依赖荷兰的现状。

全国领先的麒麟5G芯片，虽然在设计上已经精细到5纳米，但是生产线水平却仍停留在14纳米。所以在批量生产上，只能无奈进口国外的光刻机。这也是为何我国核心高精尖的芯片研发，面临“卡脖子”的尴尬。

也有人说，既然知道问题出在哪儿，国家又不缺这方面的人才，那铆足劲儿钻研，突破光刻机难关不就行了？

说起来容易，做起来难！制造出一台性能水平完备的光刻机，难度远超乎常人想象。目前我国自主生产的光刻机，还停留在90纳米，而国际标准只有其中的1/14。这就意味着国产光刻机只能用于普通LED电极等中低端产品的生产。要想制造CPU、手机芯片，只能依靠ASML光刻机进口。

核心技术过度依赖，谁都知道这不是长久之计。那突破西方国家技术*锁封**，实现芯片自由，我国的出路在哪儿？

芯片自由，出路在哪？

不可否认，我国在半导体及现代化建设相对较晚，综合水平也较为薄弱，和发达国家的自主研发水平还存在一定差距。特别是近几年，由于美国从中阻拦的明确态度，荷兰ASML向我国出口光刻机的决定越发摇摆，2022年下半年，荷兰ASML停止向我国出口精度在14纳米以下的DUV光刻机。

但并不意味着我国不可能实现弯道超越。在这一点上，我们国家集中力量办大事的优势就体现出来了。

不同于资本垄断的私人企业，我国近些年来越来越注重半导体行业人才的培养，争取让这一批留洋人才回国，献力国家芯片行业。

除了国家投入大量人力物力，企业也在斥巨资重点研发建设。紫光集团就投资了800亿元，专门进行芯片的自主研发生产。

在成品研发上，我国目前已经自主研发出一台名叫“超高解析仪”的光刻机，精度可以达到22纳米。上海微电子也正加速14纳米光刻机的研发进程。虽说仍不及国际上7纳米标准，但这仍不失为一种积极的信号。

从产业链完善到自主制造芯片，也许未来几十年，正是我国光刻机突破瓶颈，实现自主研发目标的关键期。

最后，还是那句老话，核心技术靠别人，人会跑，靠山，山会倒。光刻机核心技术关乎未来国家能否在芯片行业稳住一席之地。唯有靠自己，哪怕走弯路，走苦路，都要造出我们自己的光刻机，才能松开他人束缚的重重枷锁，有底气地大步发展。

作者：一念

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