去年8月，美国正式推出芯片法案，10月，继续出台对华半导体限制新规，今年1月、2月、3月，陆续针对中国半导体产业，进一步一而再、再而三扩大对华制裁范围，根据彭博社最新消息报道，美国准备加大限制半导体制造设备出口，限制主要在去年10月新规的基础上进行，不过目前暂时还不清楚具体细节，据白宫内部人士透露，预计可能会在下个月，也就是4月份正式宣布新的限制措施。
我们都知道，10月份具体限制新规，那就是要求所有美国半导体厂商，都必须获得许可证之后，才能向中国出口相关芯片和半导体制造设备，限制范围主要包括了，16/14nm及以下先进逻辑制程芯片，128层及以上NAND闪存芯片、以及18nm半间距，或更小的DRAM内存芯片所需制造设备的能力，说白了，就是从限制7nm、5nm芯片或相关制造设备，扩大到16nm、14nm以及18nm或其它相关DRAM内存芯片的制造设备或产品，除此之外，10月份限制范围还包括了禁止美国人在中国从事芯片制造相关工作。
可以想象，美国最新的制裁措施，势必还会进一步扩大到28nm制程的范围，因为28nm就是所谓成熟工艺的分界线，往上都属于先进制程范围，美国就是要进一步阻止中国拥有先进制程的生产能力，以及阻止中国进一步购买到更多先进制程相关的芯片产品，说白了，就是不让我们拥有先进制程芯片，让我们一直处于成熟工艺落后的基础之上，美国的真实目的早已暴露无疑，据知情人士透露，美国还要进一步与荷兰和日本协商制裁范围，很明显这就是三方就具体制裁范围还存在一定争议和分歧。为什么会产生争议和分歧呢？后面我们会讲到。
为什么美国会选择与荷兰与日本合作？而不是与英国和法国合作呢？实际上只有荷兰和日本掌握了先进的光刻机设备，比如荷兰ASML掌握的EUV光刻机，相信这个已经不用多说什么了，现在的重点在于荷兰ASML掌握的DUV光刻机，也是可以生产14nm，甚至是28nm以上的制程芯片，包括还有日本尼康的光刻机设备，同时具有生产22nm芯片的能力，对于美国而言，这些都是先进制程设备，所以，从这些信息中我们不难发现，下一步要扩大的制裁范围势必与此有关。
可能这个时候有人就要问了，为什么偏偏是先进的光刻机设备呢？其实好巧不巧，我国刚刚好在芯片领域存在的最大短板，也就是光刻机设备，因为目前真正的国产光刻机，只能制造90nm制程芯片的能力，比如中芯国际所谓研发的14nm工艺，依然还是要购买荷兰的DUV光刻机，美国进一步限制荷兰出售14nm相关的DUV光刻机，那么也就是说，我们想要进口更加先进的光刻机设备，那么也只能选择找日本购买，这也是为什么美国要进一步与荷兰和日本共同协商的原因。
说到这里，有个关键字很重要，那就是“协商”两字，为什么白宫人士透露，下个月才会推出新的限制措施？为什么美国没有以霸权地位强制执行？其实最主要的原因有两个，其一，就是日本的光刻机以及荷兰14nm以下的光刻机设备，都不包含美国技术，所以美国不像限制高端制造设备那样，可以直接向荷兰施压，美国只能通过协商的形式，简单来说，就是通过哄骗的方式来让全球两家顶级半导体制造商，跟随美国一起制裁中国半导体产业，不让中国拥有更加先进的光刻机制造设备。
其二，无论是荷兰也好还是日本也罢，他们都不希望失去中国市场，比如当美国计划联合荷兰与日本，进一步限制向华出售先进设备之时，荷兰ASML方面就立马明确态度，暂时不会影响原先的购买计划，更是直接表示中国依然可以购买14nm以下的光刻机设备，与此同时，对于日本而言也是如此，因为美国进一步扩大限制范围，导致中国连购买14nm光刻机设备的资格都没有，那么中国想要进一步购买先进的光刻机设备，最后也只剩下一个选择，那就是找日本购买，日本高兴还来不及，怎么可能愿意与美国合作，不过主要还是看他们敢不敢得罪美国。
也正是因为如此，外媒一度表示，美国这是一厢情愿，通过技术领先地位限制中国半导体产业发展也就算了，还想在自己没有能力管辖的范围内，对中国半导体产业扩大限制范围，简直就是找死。确实如此，我认为美国也是在白日做梦，荷兰ASML我们就不用多说什么了，毕竟ASML连两个最大股东都是美国境内资本，但是对于日本来说，中国以前不购买他们的光刻机，是因为有荷兰ASML这个更好的选择，现在荷兰被卡得死死的，日本光刻机也许就要成为香饽饽了，特别是日本光刻机是独立于美国的存在，根本不会受到美国技术的限制，也不会存在依赖美国的情况，主动权完全掌握在日本自己的手里。
总而言之，那就是未来全球半导体发展趋势，就要看日本会不会被美国所哄骗，如果日本一旦上当，那么就白白浪费了，唯一可能出现大卖特卖光刻机设备的机会，如果日本选择和美国硬刚，也许在不久的将来，我国会因此向日本采购更多先进光刻机设备，那么日本半导体说不定又会迎来春天，日本能不能再度超越美国，中国能不能在芯片领域自强不息，那就让我们一起拭目以待吧。对此，您怎么看？欢迎在评论区留言讨论。