这是一个让人十分不解的问题。在180nm以下的集成电路，我们都可以看到ASML的光刻机，可以说是全球唯一一家，可以量产180nm以下技术的公司。而现在很多企业都在用它，为什么没有国产光刻机呢？事实上，ASML的光刻机在180nm以下的范围内有三家。在全球范围内，能生产180nm以下产品设备也就只剩这家公司了。
不久前，有一家公司公布了一份世界排名第一的道光刻机销量。
根据资料，国内前道光刻设备的市场占有率为0，荷兰ASML、日本尼康和佳能三家独大。
ASML公司的产品，占据全球的70%以上的市场份额，可以说是垄断了市场。而我国作为一个新兴经济体与发达国家相比，无论是在市场份额还是在技术水平上，都还有很大的差距。而正是由于这种差距，导致了我国半导体行业发展滞后。就像我国目前所面临的问题一样。现在许多芯片公司，都无法在短时间内研制出光刻机，更不用说能够生产180nm以下产品了。
虽然没有办法取代国内的技术，但是在180nm的范围内，国内的光刻机，包括ASML，尼康，佳能，都是国外，而非我国。
据知情人士透露，现在的我国，在ASML的帮助下，大部分的芯片厂商，都不会使用自己的光刻机，因为他们不喜欢自己的产品，所以，他们很少使用自己的光刻机。
可问题是，为什么那些芯片公司，宁愿用ASML等外国公司的产品，而不是国内的光刻机？
其实，这些厂商，很早之前就与ASML达成了合作。现在我们的一些半导体公司，已经能够制造出ASML的光刻机，甚至还有能力制造。可问题是，这些芯片公司为什么要选择ASML呢？难道他们就不担心国内的半导体公司会被他们“卡脖子”吗？显然不可能！
这并不是因为他们崇拜外国人，而是因为他们的生存环境。
我们都清楚，晶片的制作，十分地繁琐，涉及数百个不同的仪器，数百种不同的工艺。
而ASML光刻机，与其他仪器，也是相辅相成，彼此配合得天衣无缝。
因此，如果光刻机出了问题，他们就要停工。这就是他们不愿意使用国产光刻机的原因之一。还有一种情况，国内的晶圆厂，需要大量的光刻机。但他们又不愿意购买国产的光刻机。这样，就会导致国内的光刻机无法正常工作。
如果光刻机更换了，能否与大量的外国产品相匹配，甚至是密切配合，那就很难说了。
同样，光刻机的精密程度，也是有一定的范围限制的，像ArFi光刻机，7~45nm,ArF光刻机，65~180nm都有可能。
所以，对于光刻机来说，选择最合适的才是最重要的。而我国现在的光刻机都是使用ASML的EUV光刻机，比NCVD光刻机有着更高的精确度和分辨率。而且我国的光刻机，也在不断地研发新技术。目前，国内主要是使用45纳米和90纳米EUV光刻机。虽然目前也有很多企业制造出了90纳米级的产品，但是在芯片领域，还是更多用到90纳米以下先进技术。
ASML和尼康的光刻机，都能达到更高的精确度，而国内的光刻机，技术太差了，根本不可能达到如此高的精确度。甚至要专门生产一架，这让芯片工厂陷入了两难的境地，本来一架ASML就够了，现在又要购买一架ASML的，还得再用ASML，这样一来，就太遗憾了。
而且，采用国内的光刻机，会让芯片厂商对产品的质量产生质疑，因为良品率决定了芯片工厂的寿命，决定了成本和效率。
因此，大多数人都会选择自己已经很熟悉的成熟产品，来确保自己的利润、成本和效率，而不是去尝试国产的。
国内的光刻机，虽然也有了发展的空间，但如果在生态环境、设备和工艺上，都有很大的优势，那么国内的光刻机，就很少有人会选择国产的。
当然，目前，国内也已经有了一些先进的光刻机厂家，其中最具有代表性的就是上海微电子制造有限公司。他们开发了全球首台45nmASMLEUV光刻机，目前已经能够量产28nm等先进工艺。而该公司在去年就已经实现了量产30nm的EUV光刻机，也是一款非常先进的45nmnm技术产品。现在他们正在努力进行65nm和90nm光刻机的开发工作，在7和7、6和4两个节点进行技术验证。而且上海微电子制造有限公司，还掌握了5-7nm的产品开发技术。