众所周知，目前国际半导体制造设备市场上最瞩目的就是ASML，作为可以实现全球垄断EUV光刻机的企业，市场份额占比更是有着不错的表现。
但由于美日荷联盟的缘故，ASML即将无法向中国市场供应DUV光刻机，更是有消息传来，日企尼康和佳能拿下了中企大订单，可以说ASML被美国“坑惨了”？
这就不得不从20世纪末开始说起了，当时ASML并不是世界的佼佼者，反而是日本的尼康和佳能，按照目前的排名，尼康排行在第二的位置，仅此于ASML。
20世纪末时，日本的尼康和佳能基于优秀的半导体自研技术，成为了市场上的焦点，丝毫不亚于如今ASML的水平。
曾经尼康和佳能两家日企在半导体制造设备的份额结合起来超过80%，较比如今的ASML更加出众。
当时市场上DUV光刻机还属于焦点，具有193nm的波长，能够实现65nm以下制程的芯片量产，但最低精度并不是7nm制程。
随着对精度的控制和优化，尼康和佳能开始向着157nm的波长前进，力求更加出色的精度和更先进的工艺。
而那个时候的ASML，几乎等同于如今的尼康和佳能，属于差 了一截发展历程的状态，加上市场份额并不如尼康和佳能，所以针对于研发方向上的投入资金也比不过。
但通过一个“奇遇”，ASML造成了翻盘的局面，那就是浸润式Arf光刻机的诞生，这个概念是台积电技术负责人林本坚提出的。
原理是利用水作为中间的介质，造成折射的特性效果，将原先193nm的波长改变成134nm波长的效果，实现了精度提升的效果。
而基于浸润式Arf光刻机的诞生，ASML的地位一跃而上，一度实现将尼康和佳能踩在脚下，成为了全球市场上排行第一的半导体制造设备供应商。
不过最重要的并不是这一点，而是老美当时通过自己的“手段”对尼康和佳能进行*压打**，并且利用《美日半导体协议》对尼康进行影响，尤其是强制要求共享技术给ASML，几乎可以说ASML是老美一手扶持起来的。
后来老美还联合IBM、英特尔等厂商组建“EUV LLC联盟”，其中日本的尼康和佳能并没有被包括在参与的企业内，而该项目的最终结果就是促使ASML成为了全球唯一一个EUV光刻机供应商。
当然，由于EUV LLC联盟是老美组织的，加上其中有着不少美企参与，所以如今虽说ASML可以实现EUV光刻机进行全球垄断，但同时也被老美所限制。
以至于ASML在对中国市场断供EUV光刻机的时候，只能被迫接受老美的要求，失去了不少营收和订单。
而由于尼康和佳能没有参与在EUV LLC联盟中，所以选择通过自己的努力得到更好的成绩和技术，实现了浸润式Arf光刻机的精度低至7nm制程和5nm水准的纳米压印光刻技术。
如今尼康、佳能拿下了中企的大订单，针对DUV光刻机的7nm制程购入，为两大企业带来了不少营收，反观ASML的EUV光刻机不允许出货，被老美坑惨了！
可惜的是随着美日荷联盟协议落地之后，无论是ASML、尼康还是佳能都将无法供应DUV光刻机。
所以这意味着我国半导体制造设备还需要进一步自研推进，只有实现了自给自足才是可以真正避免被“卡脖子”！
那么大家对于如今ASML的处境怎么看？欢迎评论区留言！