BMn43-0.5 锰白铜
标准
（GB/T 5231-2001)
所谓非平衡磁场指的是磁靶中心和外环的磁场强度不平衡， 这样的优势是磁力线不闭合， 从而使得磁场区域扩大， 这样磁场对粒子移动距离的增加效果更加明显。 这样有效提高了 粒子的相互碰撞几率， 扩大了 等离子体作用区域， 从而显著提高离子束电流密度。 图 1-5 为常规和非平衡磁控溅射中磁场及其等离子体特征的对比。 常规的磁控溅射方法将磁力线完全限制在靶材周围， 而非平衡磁场中， 部分磁力线甚至可以延伸到基片， 这样部分二次电子就可以轰击到基板表面， 电流密度会获得大幅提升， 薄膜的生长速率也获得明显提高。 但是该种非平衡磁场， 无论是内 聚型非平衡磁场还是扩散型非平衡磁场， 磁场区域虽然获得了扩大， 但是磁力线并不闭合， 磁控溅射的另一重要突破是闭合场非平衡磁控溅射技术。
点击输入图片描述（最多30字）
化学成分
镍+钴 Ni+Co：42.0-44.0
铁 Fe：0.15
锰 Mn：0.10-1.0
硅 Si：0.10
镁 Mg：0.05
铅 Pb：0.002
硫 S：0.01
碳 C：0.10
磷 P：0.002
铜 Cu：余量
杂质：0.6
点击输入图片描述（最多30字）
闭合场非平衡磁控溅射的示意图如图 1-6 所示。 该技术的实现是用极性相反的多组磁铁组建磁控管， 从而可以使磁力线可以相互连通。 闭合的磁场有效阻止电子逃逸， 提高了 衬底表面的等离子体密度， 并且均匀分布的磁场也成功解决了 单块靶材制备均匀薄膜的困难。 应用闭合场非平衡磁控溅射技术， 可以在保证薄膜生长速率的同时， 尽力降低了 偏压， 这样制备的薄膜更加致密， 性能更为优异。
点击输入图片描述（最多30字）
特性及适用范围
为电工铜镍合金,通常称为考铜，具有较大的温差电动势，电阻率高，电阻温度系数低，耐热性和抗蚀性比康铜好，同时具有高的力学性能和变形能力。