半导体工程师 2023-03-16 08:54 发表于北京

01

仪器结构及原理

仪器结构

1）产生高能电子束的镜筒，包括：电子枪、电磁透镜和扫描线圈；

2）接收并处理各种电子信号的成像系统：扫描信号发生器、探测器、扫描放大器、电子信息处理器和*控器监**；

3）记录电子图像的信息记录系统：摄像头、图像分析器和记录设备；

4）作为电子束与样品作用载体的真空系统：样品室、真空阀门、机械泵、油扩散泵、离子泵和真空检测装置；

5）调控扫描电子显微镜外部环境的电源系统：不间断电源、变压器、稳压器、安全控制线路和独立地线。

类型

电子枪：场发射电子枪、钨丝枪、六硼化镧

光源性能：冷场发射扫描电子显微镜、热场发射扫描电子显微镜

原理

02

仪器应用

二次电子：形貌观察

EDS：成分分析

EBSD：组构分析

FIB+Amira:三维重构

03

样品类型及制样

样品类型及要求

样品种类：块体、粉末、薄片等

对样品的要求：

1) 四无( 无磁、无毒、无污染、无放射性) ，三有( 具有稳定性、干燥性、导电性) ，两不( 不发光、非高温）。

2) 尽量保持样品原始的表面形态和结构。

3) 颗粒或粉末数量要适中，避免团聚; 块状样品体积要控制在 120 mm ×80 mm × 50 mm 以内、高度限制在 5 ～ 10 mm 左 右。

4) 测试的整个流程要注意清洁。为降低样品污染程度，可事先用酒精或超声波清洗。

5) 观察成分相的样品表面应尽量光滑，高度差异不可太大，必要时需精细抛光。

6) 待测面为锥状、似锥状或有明显棱角、尖角等的突兀状样品无法测试。同样，样品底面因不平整而阻碍导电处理的样品需要磨平。

制样方法

1）制样

2）镀膜

真空蒸发法：C

离子溅射法：Al、Cr、Au、Pt或其合金

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来源于 米格实验室 ，作者 米格实验室

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