传统染整行业中，织物的印染加工需耗费大量的水资源和化学染料、助剂等，这些化学物质的使用及排放对环境造成了极大的破坏。国家环保政策日趋严厉，传统染整行业的发展日益艰难。纳米表面处理技术中的磁控溅射法可在织物表面沉积纳米膜层，利用物理光学原理实现结构色，不需要化学试剂染色，并可节约大量水，是一种无污染的新型织物颜色制备方式，对于降低环境压力、开发新的纺织品颜色生产方式有十分重要的意义。
在织物基底上用磁控溅射法制备结构色的过程中，织物表面纳米膜层的厚度直接关系到结构色的颜色表现，而膜层厚度往往与溅射电源的溅射效率、沉积时间等因素有关。因此，对于织物结构色生产的卷绕镀膜来说，有必要关注溅射电流的调整、生产所需的靶材数量、靶材不同阶段溅射速率的变化及其 他干扰因素对膜厚及颜色的影响。由于织物的不透明性和表面的不平整性，很难用台阶仪或者电镜分析出织物上膜层的光学厚度或物理厚度；而用光度计指导织物结构色的制备有一定实用性，但在生产工艺等因素发生变化时，很难量化调整相关的可控因素来实现织物结构色稳定的重复生产。可以在卷绕镀膜区域设置位置固定的航鑫光电膜厚仪，利用膜厚仪的监测及相关数据换算指导织物表面结构色的重复、稳定生产。
航鑫光电新款膜厚测量仪FilmThick-C100利用光干涉原理，机械结构集成的进口卤钨灯光源，使用寿命超过20000小时，紧凑设计保证了测量的高度准确性和可重复性。通过内嵌式微处理器控制，小型光谱仪，光谱范围200nm –2500nm（波长范围根据配置选择），分辨精度可达3648像素，16位级A/D分辨精度。配有USB通讯接口。FilmThick对样品进行非接触式、无损、高精度测量，可测量反射率、颜色、膜厚等参数。可应用于光伏、半导体材料、高分子材料等薄膜层的厚度测量，在半导体、太阳能、液晶面板和光学行业以及科研所和高校都得到广泛的应用。